湾芯展没有国产光刻机亮相，但新凯来确实带来了小惊喜

今日快讯 2025年10月16日 01:49 1 admin

10月15日，湾芯展正式在深圳福田会展中心举行。

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在这会展举行之前，市场可是充满期待，尤其是前几天深圳发改委在新闻发布会上曾经说到，新凯来旗下的一些子公司都会给大家带来意想不到的惊喜，这吊足了大家的胃口。

甚至有一些不理智的投资者直接梭哈新凯来的一些概念股，结果10月15日，湾芯展正式举行之后，略微让大家感到失望，新凯来一些概念股顺势下跌，个别企业甚至跌停。

对此很多人都质疑，这就是新凯来给大家带来的惊喜吗？恐怕不是惊喜，而是惊吓吧！

而大家之所以有这样的态度反转，原因是之前大家都普遍预测在这次湾芯展上新凯来有可能会亮相国产DUV光刻机，但至今为止湾芯展压根就没有看到国产光刻机的影子，对此大家都非常失望。

不过失望归失望，但这次湾芯展新凯来确实给大家带来了不小的惊喜，其中最大的惊喜是两款国产EDA软件。

在这次湾芯展上，新凯来旗下子公司启云方发布了两款EDA软件，既原理图和PCB软件。

根据新凯来一些负责人介绍，这两款EDA软件在电子电路设计上面的重要指标已经达达业界一流水平，产品性能较行业标杆提升30%，产品硬件开发周期可缩短40%。

另外这些EDA软件可以支持100人同时在线画一张图，还能搞定15万管脚以上的复杂电路板设计。

单纯从这些数据可以看出，这两款EDA软件确实是一种惊喜，至少它在单点EDA上面实现了突破，甚至领先了同行一些现有的软件，这对于提升国产芯片的设计效率具有非常重要的作用。

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不过这种惊喜我觉得只是小惊喜，谈不上大惊喜。

看到产品性能叫行业标杆提升30%，产品硬件开发周期缩短40%，很多人都惊呼国产EDA终于崛起，终于可以摆脱对外部的依赖了，如果大家有这样的观点，我只能说大家对EDA行业根本不了解。

EDA简单来说就是电子设计自动化，是一种利用计算机辅助技术完成集成电路（IC）设计、仿真、验证等全流程的工具链总称，在半导体生产的过程当中具有非常重要的作用，它是前端最核心的工具之一，没有EDA的帮助，半导体的设计效率将会大幅下降。

但是大家要弄清楚，EDA软件它不是一个像windows系统或者安卓这样一个单一的软件，它是一类软件的统称

从实际情况来看，EDA软件类型是非常复杂的，它包括数字IC设计EDA，模拟IC设计EDA，晶圆制造EDA，电路板EDA，封装EDA，系统设计EDA几个大类。

按照应用场景，它涉及前端设计、后端设计、制造衔接类几个类别。

而且每一个类别下面又细分为很多个细分领域，单是在数字IC类别下就可以分为30个细分领域。

而这次新凯来所推出的两款EDA应该是属于模拟IC设计类别的。

对于模拟EDA，其实新凯来算不上给大家带来什么特大的惊喜，因为目前国内其实已经有部分厂家能够提供比较顶尖的EDA软件，其中最具代表的就是华大九天，而且华大九天在模拟EDA领域基本已经形成了全流程的软件，他们也是目前国产EDA软件实力最强的，市场份额最高的。

另外包括概伦电子、广立威、紫光国微、芯和半导体、国微芯、九同方、鸿芯微纳、诺贝电子、思尔芯、集姆电子等相关企业在一些细分领域也有一定的实力。

但从整体来说，目前国产EDA的实力还是偏弱的，跟国际三大巨头Synopsys（新思科技）、Cadence（楷登电子）、Siemens EDA（西门子EDA）仍然有很大的差距，无论是市场份额还是整体实力差距都比较明显。

一方面是市场份额差距大。

目前我国EDA市场的规模超过130亿，但超过80%的市场份额被国际三大巨头占有；国产EDA市场份额不足20%。

另一方面是缺乏全流程EDA。

半导体设计全流程EDA是非常关键的，但目前国内没有任何一家企业能够提供全流程的EDA，即便实力最强的华大九天也只能提供模拟IC涉及的全流程，在其他方面仍然有差距。

相对来说，国际三大巨头他们在全流程EDA上面已经深耕多年，具有无法撼动的实力，这也是为什么国内很多芯片设计厂家喜欢使用三大巨头软件的重要原因。

再一个是高端EDA严重依赖进口。

半导体制程一直在不断更新迭代，目前全球最先进的芯片已经达到2纳米，但比较遗憾的是，目前国产EDA软件只能应付7纳米以上的芯片设计，对于7纳米以下的芯片设计，目前国产EDA基本上是空白，完全依赖进口。

最后一个是缺乏生态。

目前国产EDA跟国际三大巨头之所以有很大的差距，有一个非常重要的原因是缺乏生态的支撑。

受到光刻机等一些因素的影响，目前国内无法生产7纳米以下的芯片，导致国产EDA软件缺乏生态空间。

相对来说，国际三大巨头经过几十年的摸爬滚打之后，他们跟台积电、三星、英特尔等一些芯片厂家深度捆绑，能够跟全球最先进的芯片保持同步，这种芯片生态是他们发展壮大的重大基础之一。

基于以上这些原因，短期内国产EDA跟国际顶尖水平仍然是有很大差距的，就算新凯来推出了两款顶尖的EDA也无法弥补这种差距。

再说新凯来只是推出了两款EDA，跟全流程EDA差距仍然很大，在这我们也希望新凯来能够不负众望，能够在未来的日子里推出更多的EDA，甚至建立全流程EDA，同时打破7纳米以下EDA格局，这样才能真正让国产半导体设计独立自主，要不然仍然受制于人。

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要知道，目前国际三大EDA软件提供商几乎都是美国，虽然有一款是德国的西门子控股，但实际上他们也是从美国那边收购过来的（前身是Mentor Graphics），目前研发团队和企业仍然在美国。

正因为有这种优势，所以美国在限制中国半导体上面才有恃无恐，除了硬件上的限制之外，在软件上他们也是胡乱限制。

比如2022年8月，BIS（美国商务部工业与安全局）将用于设计 3nm 及以下GAAFET结构的EDA工具纳入出口管制，限制对华出口。

到了2025年5月，BIS又要求两家美国EDA大厂Synopsys（新思科技）和Cadence（楷登电子）对中国企业断供芯片设计EDA软件工具，另外西门子也向中国多个客户提交说明，对中国的EDA相关软件需求进行核验，部分软件也停止升级。

只不过到了7月份，美国商务部突然调整此前立场，撤销了对部分中低端EDA工具的强制许可要求，允许相关企业在符合特定条件的情况下恢复对华出口。

但按照目前的一些特殊环境，未来他们会不会全部封锁三大EDA供应商对中国出口，那就很难说了。

总之，在EDA市场，尤其是高端EDA的市场，严重依赖进口存在很多不确定因素，潜在的危险也很大，所以必须尽早实现国产替代，这时候新凯来突然宣布推出两款顶尖的EDA这无疑是一个非常大的惊喜。

要知道新凯来成立的时间并不长，这家企业2021年才成立，估计真正研发EDA的时间也就两三年时间，能够在这么短的时间之内能推出超越行业标杆的EDA这是相当了不起的成绩。

毕竟EDA研发可不是普通的软件开发，不是你投入资金和人力就能够轻易研发来，有很多高端的EDA开发是非常复杂的，期间遇到的问题也非常棘手。

比如3nm以下的GAAFET工艺需考虑量子隧穿、热效应等复杂物理现象，这里面每个细节都要耗费大量的精力去突破，此外，就算把EDA开发出来了，EDA与代工厂PDK的兼容性、软件易用性也会面临很多挑战，尤其是在国内高端芯片制造缺乏生态的背景下，其潜在的挑战性更大。

也正因为EDA的开发非常复杂，所以很即便是国际三大厂，他们的开发周期也非常长，比如Cadence的PVS工具仅研发就超十年。

通过简单的对比，大家才发现新凯来能够推出两款顶尖的EDA这是非常了不起的成就，我们也期待未来它能够给我们带来更大的惊喜。

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