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卡尔蔡司SMT取得半导体光刻投射曝光设备相关专利

今日新闻 2025年08月05日 13:26 1 aa

金融界2025年8月5日消息,国家知识产权局信息显示,卡尔蔡司SMT有限责任公司取得一项名为“半导体光刻的投射曝光设备”的专利,授权公告号CN114514472B,申请日期为2020年09月。

本文源自金融界

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