台积电出现日本内鬼！窃取2nm技术机密被捕，最高将获刑14年

今日新闻 2025年10月14日 19:47 0 aa

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2025 年 8 月，台积电 2nm 核心技术泄密案的起诉文书揭开惊人内幕：三名工程师通过翻拍设备界面截图的 “原始手段”，窃取了涵盖刻蚀气体配比、温度曲线等关键参数的核心资料。

新闻报道

检方对主犯陈力铭提出 14 年有期徒刑的量刑建议，创下该地区半导体泄密案刑期新高！

他们是为何会想要窃密给日本呢？最后又是如何处理的？

这场看似 “低技术含量” 的窃密行动，实则精准击中半导体产业的命门，涉案数据经 AI “小样本学习” 处理后，可直接转化为优化刻蚀机性能的统计性工艺控制（SPC）系统。

这套被称为半导体制造 “隐形大脑” 的技术，能将芯片良率提升 10%-15%，足以改写 2nm 制程设备的市场格局。

案件的突破口并非技术监测，据悉三名涉案人员同为高校校友，形成了跨越企业边界的隐秘技术网络。

除此之外，还有前台积电工程师陈力铭的“牵线”，也暴露了行业人才流动中的保密漏洞：他跳槽至设备商东京电子（TEL）后，利用过往人脉渗透台积电内网，通过非工作时段的短时登录规避监控，

这种 “内鬼 + 外援” 的组合，使得拥有 USB 禁用、屏幕水印等防护措施的台积电防线形同虚设。

来源网络

更值得警惕的是，涉案三方均对犯罪事实供认不讳，并试图以认罪换取减刑，凸显出在巨额利益诱惑下，技术从业者的职业操守底线面临严峻考验。

此案成为 2022 年当地 “安全法” 修订后的标志性案例，该法案将 14nm 以下半导体技术纳入 “核心关键技术” 范畴，2024 年新增的 32 项保密技术中，2nm 刻蚀工艺赫然在列，最高可判处 12 年有期徒刑及 1 亿新台币罚款。

检方的量刑逻辑清晰展现了对技术泄密的零容忍态度：主犯陈力铭因兼具 “窃取” 与 “意图域外使用” 双重情节，数罪并罚后量刑建议达 14 年；在职工程师吴秉骏因直接参与核心数据窃取，获刑建议 9 年；提供支援的戈一平也面临 7 年刑期。

在押工程师吴秉骏（右一）、戈一平（左三）

值得注意的是，本案另有 3 名涉事人员因台积电未提出告诉而免于刑责，这种 “企业裁量权” 与 “国家追责权” 的博弈，折射出产业保护与法律执行的复杂平衡，目前检方已启动续查，追查可能涉及的法人刑事责任。

东京电子的涉案动机，揭示了全球半导体设备领域的激烈竞争态势，作为全球第四大设备商，其刻蚀机在先进制程领域落后于美国应用材料等对手，而台积电 2nm 制程的设备招标直接关系到未来十年的行业话语权。

通过窃取数据跳过研发周期，成为其 “弯道超车” 的冒险选择。

此案的影响已超越企业层面，日本 Rapidus 公司正推进 2nm 研发计划，其股东阵营包含东京电子等八大财团，尽管工艺路线不同，但优化后的 SPC 系统若接入 Rapidus 设备，仍可能缩短其研发周期，重塑全球 2nm 技术版图。

对整个行业而言，此案敲响了技术保密的警钟，当制程逼近物理极限，刻蚀、薄膜沉积等环节的工艺参数成为竞争核心，“技术即主权” 的理念愈发凸显。

远程办公普及下，如何防范手机拍摄等 “低技术窃密”，结合 AI 行为分析构建立体防护体系，已成为所有半导体企业的必修课。

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台积电 2nm 泄密案绝非孤立事件，而是后摩尔时代产业竞争的必然产物，建议对相关窃密者量刑7-14年，既是对涉案者的惩戒，更是对全球半导体行业的警示：在技术迭代的赛道上，保密防线的失守可能意味着整个产业的掉队。

当 2nm 芯片即将重塑全球算力格局，这场没有硝烟的技术保卫战，才刚刚拉开序幕。

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