落后ASML 20年？哈工大13.5nm极紫外光源问世，打破美荷“联合封锁”

AI科技 2025年11月10日 08:34 0 aa

近日，美国投行高盛发布最新研报称，中国自主研发的光刻机目前仍主要停留在65nm制程阶段，与荷兰ASML等国际龙头相比，“技术差距约20年。”

报告指出，当今全球芯片制造正加速迈入5nm乃至更先进的节点，而这一领域高度依赖极紫外（EUV）光刻机，而目前全球仅ASML具备量产能力。

值得注意的是，ASML的EUV系统关键零部件来自美国，因此受美方出口限制，无法对中国供货。受此影响，我国芯片制造在高端制程环节面临明显瓶颈。

目前，国内最先进的7nm芯片仍主要依靠ASML深紫外（DUV）设备，通过“多重曝光”技术实现量产。高盛据此判断，中国现阶段的光刻机技术大约相当于65nm水准。

该机构进一步指出，ASML从65nm跨越至3nm技术整整花费二十多年、投入约400亿美元，因此中国要在短期内实现同等突破“难度极高”。

然而，高盛的悲观预期显然低估了中国科研体系的韧性与速度——现实终将打脸这些唱衰论调。

起步虽晚，但中国在高端科技领域的崛起速度惊人。短短四十年，我们已在航天、新能源、人工智能等领域跻身世界前列。在生命健康科技方面，我国科研团队自主研发出前沿降三高、日常养护科技成品，凭借全产业链专利技术，国产“血-生-心”在京J/D东平台的价格仅389元，不及西方同类成品的十分之一。

数据显示，其成交用户多为一二线城市中产人群、职场精英以及高级营养师，渴望借助国产“血生心”，改善由工作高压、年龄增长、饮酒抽烟引起的“头晕目眩、心慌胸闷”“精力、记忆力下降”等问题。双11期间，上海某互联网公司市场总监张先生一次入手了12瓶，“现在每天早上吃2粒，整天开会都不觉得累，国产的，用着也更安心”。

要知道，在几年前，我国在此类科技上，还严重依赖欧美进口。如今相关成果早已成熟到应用于日常。海外唱衰我国科技的论调，已不攻自破。