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2025-10-11 0
在当前全球半导体产业链竞争日益激烈的背景下,高端半导体材料的自主可控已成为国家战略层面的重要议题。
近期,民生证券发布的《半导体行业专题:空白掩模版,光刻工艺核心原料,国产化亟待突破》报告深入剖析了空白掩模版这一关键材料的技术壁垒、市场格局与国产化前景,揭示了我国在半导体上游核心环节面临的“卡脖子”挑战与突围路径。
掩模版作为半导体制造中不可或缺的“图形母版”,其作用类似于传统摄影中的底片——通过光刻工艺将设计好的电路图形精确复制到硅晶圆上,实现芯片的批量生产。
在整个半导体材料体系中,掩模版市场规模占比高达12%,仅次于硅片和电子特气,是晶圆制造过程中的第三大材料支出。
2021年全球半导体掩模版市场规模已达54.35亿美元,预计到2025年将增长至60.79亿美元,年复合增长率稳定在7%左右。
而中国大陆市场增速更为迅猛,2017年至2022年复合增速达11.3%,2023年市场规模已突破17.78亿美元,显示出强劲的增长动能。
然而,在如此庞大的市场需求背后,一个严峻的事实是:高端空白掩模版的供应几乎被日本企业垄断。
空白掩模版是指尚未进行图形化处理的原始基板,主要由高纯度石英玻璃基板镀上铬、硅化钼等光学薄膜构成,它是光掩模版制造中最核心、成本占比最高的原材料。
根据龙图光罩招股书数据,2021-2023年期间,其原材料采购中空白掩模版占比分别为64%、58%、53%,足见其在产业链中的关键地位。
民生证券测算,2024年全球空白掩模版市场规模约为18亿美元,中国大陆市场约为4亿美元(约28亿元人民币)。
目前,全球高端空白掩模版市场由日本HOYA、信越、AGC等企业主导。
特别是极紫外光刻(EUV)所需的空白掩模版,全球仅有两家供应商,HOYA占据绝对主导地位;深紫外光刻(DUV)领域,HOYA同样掌握主要份额。
这种高度集中的供应格局使得我国半导体产业链面临极大的供应链安全风险。
尤其是在美国持续加码对华半导体出口管制的背景下,关键材料的“断供”威胁愈发现实。
相比之下,国内企业在该领域起步较晚,技术积累薄弱。
目前国产厂商如普照信息、中科卓尔、韶光芯材等,主要集中在G6及以下尺寸、平板显示、PCB等中低端应用领域,而在用于先进制程的高端石英基板方面仍几乎空白,严重依赖进口。
这不仅推高了国内晶圆厂的成本,也制约了我国在7nm、5nm乃至更先进制程上的自主发展能力。
值得期待的是,国产替代进程正在加速。
报告指出,聚和材料拟通过收购韩国SK Enpulse公司的空白掩模版业务切入该领域。
此次收购涵盖土地、厂房、设备、专利、技术团队等全套资源,有望帮助国内企业快速跨越技术门槛,实现从零到一的突破。
SK Enpulse的产品已通过多家晶圆厂验证并实现量产,具备一定的技术基础和客户资源。
若整合顺利,将成为我国高端空白掩模版国产化的重要里程碑。
此外,庞大的本土晶圆产能也为国产替代提供了坚实基础。
截至2025年8月,中国大陆晶圆月产能已达259万片,其中先进制程(14nm及以下)产能稳步提升。
中芯国际、华虹、长江存储、长鑫存储等头部晶圆厂均在持续扩产,带动对高端掩模版及空白掩模版的长期需求。
随着制程不断微缩,所需掩模版层数增加(如台积电14nm需约60层),叠加OPC(光学邻近校正)、PSM(相移掩模)等复杂技术的应用,高端掩模版成本急剧上升,7nm芯片所需掩模版成本高达1500万美元,占整体成本的2.5%。
这也意味着,实现空白掩模版国产化不仅能保障供应链安全,还将显著降低制造成本,提升产业竞争力。
当然,国产化之路并非坦途。
报告提示了三大风险:一是技术迭代风险,EUV之后可能迎来High-NA EUV乃至纳米压印等新技术,企业需持续高强度研发投入;二是供应链风险,高端设备、原材料仍受制于人;三是市场竞争风险,第三方掩模版市场集中度高,新进入者面临客户认证周期长、资金门槛高等挑战。
综上所述,空白掩模版虽小,却是撬动整个半导体产业链自主可控的关键支点。
在全球地缘政治与技术竞争交织的今天,加快高端空白掩模版的国产替代,不仅是技术攻关问题,更是关乎国家安全与产业命脉的战略任务。
聚和材料等企业的并购布局,标志着我国正从被动应对转向主动出击。
未来,唯有通过“自主研发+国际合作”双轮驱动,才能真正打破垄断,构建安全、稳定、高效的本土半导体材料供应链。
本文由【报告派】研读,输出观点仅作为行业分析!
原文标题:原文标题:2025-10-10-民生证券-民生证券-半导体行业专题:空白掩模版,光刻工艺核心原料,国产化亟待突破
发布时间:2025年
报告出品方:民生证券
文档页数:23页
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精品报告来源:报告派
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