美国专家：中国为了自研设备，从ASML手中囤积了大量进口的光刻机

今日新闻 2025年11月01日 08:09 1 admin

2022年10月，美国商务部出台新规，禁止向中国出口用于14纳米以下芯片的先进设备，这直接冲击了ASML的EUV机型销售。

那时候，中国芯片制造商像中芯国际和长江存储，还能买到DUV浸润式设备，这些适用于7纳米及以上工艺，能勉强维持逻辑和存储芯片的生产。Shi在2023年底的访谈中提到，中国采购激增反映出对未来的准备心态。

ASML的财报显示，2023年中国市场贡献了公司总销售额的29%，比前一年明显多出不少。中国企业通过提前支付和批量订购锁定供应，还包括耗材和维护部件，确保设备能长期用下去。

举个例子，2023年8月，一批价值数亿欧元的订单交付完成，这些机器被运到上海和武汉的芯片基地，安装后直接上马测试，帮助缓解了短期芯片短缺。

到了2024年，荷兰政府在美国的推动下，从1月1日起要求ASML的部分DUV机型出口需许可，这导致一些在途订单被拦下。

但中国企业继续采购未受限的型号。2024年第一季度，ASML对华销售占比升到39%，总额约25亿欧元。

这些设备多分配到存储芯片厂商，用在3D NAND闪存升级上。长江存储那年上半年技术迭代，部分靠这些进口货支撑。Shi在2024年夏季的报告里强调，这种策略给中国自研光刻技术提供了至少两年的缓冲。

数据显示，2024年中国半导体设备进口总额335亿美元，其中光刻机占25%，主要从荷兰和日本来。

全年下来，中国成了ASML最大客户，采购总额89.2亿欧元，占公司销售额41%。企业不光买整机，还带软件升级和培训，最大化利用率。

ASML现任CEO Christophe Fouquet在2024年接手后，多次谈及这个话题。他在10月的访谈中说，美国限制起初是安全考虑，但后来更偏经济动机。中国目前在先进技术上落后10到15年，但这些管制会刺激中国加倍努力。

Fouquet还提到，无论谁当美国总统，对华出口压力都会持续。2024年下半年，美国继续游说盟国，荷兰年中拒绝了多项先进浸润式设备的许可申请。这逼中国加快本土替代，但进口储备还是过渡关键。

进入2025年，格局开始变。中国进口势头放缓，ASML第三季度报告显示，对华销售占比降到20%。第三季度净销售7.5亿欧元，中国占系统销售42%，但全年预计销售增长15%，中国部分将显著下降，到2026年更明显。这是因为先前囤积够用，加上本土设备进步。

像中微半导体和北方华创，在刻蚀和沉积领域实现替代，减少进口依赖。长江存储和长鑫存储在存储芯片上推进，产业链转向自主。日本芯片供应商高管去年表示，中国技术突破会给国际市场带来压力。

中国自力更生的目标很明确，到2025年半导体设备自给率达50%，从13.6%起步。投资巨大，单EUV研发就投370亿欧元。企业如上海微电子装备（SMEE），专注193nm ArF浸润式DUV机，能造28nm芯片，用多重图案化推到7nm。

SMEE的SSA600系统2013年就相当于ASML早年机型，现在在优化光源和光刻胶。北京RS激光提供40W 4kHz ArF光源，虽比ASML的60W 6kHz弱，但已交付。江苏Nata建25吨ArF光刻胶生产线，产品在ASML机上测试过。

AMIES科技，上海微电子子公司，上周在深圳展会上秀出化合物半导体光刻机、激光退火系统和检测工具，针对包装和晶圆键合。SiCarrier，华为关联，在先进节点光刻机上发力，虽没公开展，但据说供28nm DUV给中芯国际测试，用自对准四重图案化（SAQP）瞄准5nm。

有趣的是，有报道说中国工程师试着逆向工程ASML的DUV机，不是为量产老型号，而是学内部原理复制本土版。

整体，中国光刻推力大，从依赖ASML到建自家供应链。

ASML垄断EUV，高NA机每台3.8亿美元。中国开发激光等离子（LDP）EUV，可能加速赶超，虽效率优势待证。

总的看，中国策略务实，先囤后研。

教训给欧洲，中国自力更生路径值学。芯片全球化体系颠覆中，中国努力不减。

参考资料

光刻机之战中国经济周刊

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